Zweistelliger Millionenumsatz im Mai für den Halbleiterbereich von Carl Zeiss in Jena
- Pressemitteilung der Firma Carl Zeiss AG, 30.05.2011
Pressemitteilung vom: 30.05.2011 von der Firma Carl Zeiss AG aus Oberkochen
Kurzfassung: Carl Zeiss hat im Mai mehrere Großgeräte zur Analyse und Reparatur von Photomasken in die USA und nach Taiwan ausliefern können. "Die Lieferungen bestätigen den positiven Trend in der Halbleiterindustrie und in unserem Bereich Semiconductor ...
[Carl Zeiss AG - 30.05.2011] Zweistelliger Millionenumsatz im Mai für den Halbleiterbereich von Carl Zeiss in Jena
Carl Zeiss hat im Mai mehrere Großgeräte zur Analyse und Reparatur von Photomasken in die USA und nach Taiwan ausliefern können. "Die Lieferungen bestätigen den positiven Trend in der Halbleiterindustrie und in unserem Bereich Semiconductor Metrology Systems bei Carl Zeiss. Wir freuen uns über volle Auftragsbücher", sagt Dr. Oliver Kienzle, Geschäftsführer der Carl Zeiss SMS GmbH.
In die USA wurde ein System MeRiT® HR 32 geliefert, das für die hochgenaue Reparatur von Photomasken eingesetzt wird. Nach Taiwan ging ein System PROVE®, das die Positionsgenauig- keit der Maskenstrukturen im Sub-Nanometer- bereich misst. Ein Gerät CDC32 zur Verbesse- rung der Genauigkeit von Linienbreiten auf Photomasken wurde außerdem direkt in eine sogenannte "Wafer Fab", eine Produktionsstätte für Speicherchips, geliefert. Während Masken- häuser die Hauptkunden der Carl Zeiss SMS GmbH sind, ist der Eintritt in den Wafer Fab Markt neu. "Der aktuelle Verkauf eines Geräts in eine Wafer Fab in den USA bestätigt unsere Strategie. Diese neue Ausrichtung wird uns in nächster Zeit weiteren, zusätzlichen Aufschwung bringen", kommentiert Kienzle weiter.
Die Carl Zeiss SMS GmbH hat sich in der Halbleitertechnik auf die Analyse, Reparatur und Qualitätsverbesserung von Photomasken spezialisiert. Photomasken sind hochgenaue Kopiervorlagen für alle Halbleiterchips und erfordern eine 100-prozentige Fehlerfreiheit im Maßstab von Nanometern (ein Nanometer ent- spricht einem millionstel Millimeter). Für nahezu alle kritischen Prozessschritte bei der Herstellung von Photomasken bietet die Carl Zeiss SMS geschlossene Lösungen an.
Leila Hammad
Carl Zeiss SMS GmbH
Tel.: +49 3641 64-2242
Fax: +49 3641 64-2938
E-Mail: hammad@smt.zeiss.com
Carl Zeiss hat im Mai mehrere Großgeräte zur Analyse und Reparatur von Photomasken in die USA und nach Taiwan ausliefern können. "Die Lieferungen bestätigen den positiven Trend in der Halbleiterindustrie und in unserem Bereich Semiconductor Metrology Systems bei Carl Zeiss. Wir freuen uns über volle Auftragsbücher", sagt Dr. Oliver Kienzle, Geschäftsführer der Carl Zeiss SMS GmbH.
In die USA wurde ein System MeRiT® HR 32 geliefert, das für die hochgenaue Reparatur von Photomasken eingesetzt wird. Nach Taiwan ging ein System PROVE®, das die Positionsgenauig- keit der Maskenstrukturen im Sub-Nanometer- bereich misst. Ein Gerät CDC32 zur Verbesse- rung der Genauigkeit von Linienbreiten auf Photomasken wurde außerdem direkt in eine sogenannte "Wafer Fab", eine Produktionsstätte für Speicherchips, geliefert. Während Masken- häuser die Hauptkunden der Carl Zeiss SMS GmbH sind, ist der Eintritt in den Wafer Fab Markt neu. "Der aktuelle Verkauf eines Geräts in eine Wafer Fab in den USA bestätigt unsere Strategie. Diese neue Ausrichtung wird uns in nächster Zeit weiteren, zusätzlichen Aufschwung bringen", kommentiert Kienzle weiter.
Die Carl Zeiss SMS GmbH hat sich in der Halbleitertechnik auf die Analyse, Reparatur und Qualitätsverbesserung von Photomasken spezialisiert. Photomasken sind hochgenaue Kopiervorlagen für alle Halbleiterchips und erfordern eine 100-prozentige Fehlerfreiheit im Maßstab von Nanometern (ein Nanometer ent- spricht einem millionstel Millimeter). Für nahezu alle kritischen Prozessschritte bei der Herstellung von Photomasken bietet die Carl Zeiss SMS geschlossene Lösungen an.
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