Carl Zeiss liefert 25. Großgerät für die Halbleiterfertigung aus
- Pressemitteilung der Firma Carl Zeiss AG, 29.06.2012
Pressemitteilung vom: 29.06.2012 von der Firma Carl Zeiss AG aus Oberkochen
Kurzfassung: Das Photomaskenreparatursystem geht nach Italien JENA, 29.06.2012. Carl Zeiss liefert heute sein 25. Großgerät zur Reparatur von Photomasken aus – ein Kunde aus Italien hatte das mehrere Millionen Euro teure System bestellt. Das System MeRiT® ...
[Carl Zeiss AG - 29.06.2012] Carl Zeiss liefert 25. Großgerät für die Halbleiterfertigung aus
Das Photomaskenreparatursystem geht nach Italien
JENA, 29.06.2012.
Carl Zeiss liefert heute sein 25. Großgerät zur Reparatur von Photomasken aus – ein Kunde aus Italien hatte das mehrere Millionen Euro teure System bestellt. Das System MeRiT® kann Defekte auf Photomasken mit einer Genauigkeit im Nanometer-Bereich reparieren. Basierend auf einer speziellen Elektronenstrahltechnologie wird dabei fehlendes Material aufgetragen oder überschüssiges Material weggeätzt.
"Das MeRiT feiert dieses Jahr seinen zehnten Geburtstag", sagt Dr. Oliver Kienzle, Geschäfts- führer der Carl Zeiss SMS GmbH. "Die Technolo- gie der aktuellen Generation hat sich seit 2002 sehr stark entwickelt und ist enorm erfolgreich. Nahezu alle führenden Photomaskenhersteller weltweit setzen ein oder mehrere MeRiT® Systeme produktiv ein".
Das Maskenreparatursystem, das im Jahr 2004 mit dem "Innovationspreis der deutschen Wirtschaft" ausgezeichnet wurde, nimmt bei der Chipherstellung eine entscheidende Rolle ein: Mit der immer weiter fortschreitenden Miniaturi- sierung von Chipstrukturen wird es zunehmend schwieriger, Photomasken ohne kritische Fehler herzustellen. Durch die Reparatur der Maske kann sie jedoch weiterverwendet werden. "Bei einem Preis von bis zu mehreren hunderttausend Euro pro Maske ist die Reparatur für den Hersteller essentiell," so Kienzle weiter.
Die Carl Zeiss SMS GmbH mit Hauptsitz in Jena ist führender Hersteller von Mess- und Korrektur- systemen für Photomasken in der Halbleiter- industrie und hat sich auf die Analyse, Reparatur und Qualitätsverbesserung spezialisiert. Photo- masken sind hochgenaue Projektionsvorlagen für alle Halbleiterchips und erfordern eine nahezu 100-prozentige Fehlerfreiheit im Maßstab von Nanometern (ein Nanometer entspricht einem millionstel Millimeter). Für die kritischen Prozess- schritte bei der Herstellung von Photomasken bietet die Carl Zeiss SMS geschlossene Lö- sungen an. Das MeRiT® System wird in einer Betriebsstätte der Carl Zeiss SMS in Rossdorf (Hessen) entwickelt und in Jena gefertigt und vermarktet.
Leila Hammad
Carl Zeiss SMS GmbH
Tel.: +49 3641 64-2242
Fax: +49 3641 64-2938
E-Mail: hammad@smt.zeiss.com
Das Photomaskenreparatursystem geht nach Italien
JENA, 29.06.2012.
Carl Zeiss liefert heute sein 25. Großgerät zur Reparatur von Photomasken aus – ein Kunde aus Italien hatte das mehrere Millionen Euro teure System bestellt. Das System MeRiT® kann Defekte auf Photomasken mit einer Genauigkeit im Nanometer-Bereich reparieren. Basierend auf einer speziellen Elektronenstrahltechnologie wird dabei fehlendes Material aufgetragen oder überschüssiges Material weggeätzt.
"Das MeRiT feiert dieses Jahr seinen zehnten Geburtstag", sagt Dr. Oliver Kienzle, Geschäfts- führer der Carl Zeiss SMS GmbH. "Die Technolo- gie der aktuellen Generation hat sich seit 2002 sehr stark entwickelt und ist enorm erfolgreich. Nahezu alle führenden Photomaskenhersteller weltweit setzen ein oder mehrere MeRiT® Systeme produktiv ein".
Das Maskenreparatursystem, das im Jahr 2004 mit dem "Innovationspreis der deutschen Wirtschaft" ausgezeichnet wurde, nimmt bei der Chipherstellung eine entscheidende Rolle ein: Mit der immer weiter fortschreitenden Miniaturi- sierung von Chipstrukturen wird es zunehmend schwieriger, Photomasken ohne kritische Fehler herzustellen. Durch die Reparatur der Maske kann sie jedoch weiterverwendet werden. "Bei einem Preis von bis zu mehreren hunderttausend Euro pro Maske ist die Reparatur für den Hersteller essentiell," so Kienzle weiter.
Die Carl Zeiss SMS GmbH mit Hauptsitz in Jena ist führender Hersteller von Mess- und Korrektur- systemen für Photomasken in der Halbleiter- industrie und hat sich auf die Analyse, Reparatur und Qualitätsverbesserung spezialisiert. Photo- masken sind hochgenaue Projektionsvorlagen für alle Halbleiterchips und erfordern eine nahezu 100-prozentige Fehlerfreiheit im Maßstab von Nanometern (ein Nanometer entspricht einem millionstel Millimeter). Für die kritischen Prozess- schritte bei der Herstellung von Photomasken bietet die Carl Zeiss SMS geschlossene Lö- sungen an. Das MeRiT® System wird in einer Betriebsstätte der Carl Zeiss SMS in Rossdorf (Hessen) entwickelt und in Jena gefertigt und vermarktet.
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